mb共享三级缓存、sse

        4.2指令集、超线程技术、turbo

        de、微架构优化、提升预判单元性能、新增功能如qpi总线、能源管理单元、45nm制程。

        研发周期30个月。

        一旦攻克了193nm波长光源的世界性难题，研制成功65n制程工艺浸没式光刻机和75nm制程工艺的干式光刻机，研制成功45nm制程工艺光刻机就不会那么难了。

        今年三月，bsec光刻机研究院已经研发成功45nm制程工艺的浸没式光刻机，避免刺激美国，密而不发。

        “小坤，用gz

        king

        9000玩魔兽世界爽不爽？”

        “嘿嘿……董事长，我预定二台，我一台，老婆一台！”

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