2004年6月17日，bsec突然公开宣布，全球第一台65nm制程的浸没式光刻机twinsxt:2250i被研发成功！

        2250i的问世不仅成为全球光刻机行业划时代的重要事件，也对全球半导体行业的发展承前启后。

        bsec首次成为全球光刻机行业发展的领导者！

        尼康公司如梦初醒，急忙停止euv的研究，集中全部力量研发65nm制程的干式光刻机nsr-s308f。

        这些年，尼康公司在euv光源和光学系统上投资了7亿多美元，虽然没有研发成功euv光源发生器，但研发成功了157nm激光器，借助于aset的资源，5个月不到就研发成功nsr-s308f，发现制程达不到65nm，又集中精力研发成功偏振照明系统pono，弥补了157nm波长的缺陷；不到一年，全球第一台45nm制程的dsp-100干式光刻机横空出世。

        厚积薄发！

        尼康公司又夺回全球光刻机行业的老大位置！

        日本经济产业大臣甘立明代表日本政府亲自到尼康公司祝贺，奖励2000万美元。

        尼康公司管理层、技术团队和普通员工喜笑颜开，干劲十足。

        日本半导体行业欢欣鼓舞，决定联合投资2350亿日元（20亿美元），在东京都千代田区建设全球第一条45nm制程工艺的半导体生产线。

        ------

        内容未完，下一页继续阅读