6月2日上午，孙健在办公室，从pn（鲲鹏网）首页上看到一则一百多字的新闻（转载gpn）：尼康45nm干式光刻机横空出世！立马引起了他的眼球，尼康公司今日公开宣布，尼康公司同selete合作，在65nm制程工艺干式光刻机nsr-s308f的基础上，经过一年多的努力，研制成功45nm干式光刻机dsp-100；同时宣布，尼康公司将联合selete、尔必达、东芝、富士通公司，投资2350亿日元（相当于20亿美元），在东京都千代田区建设全球第一条45nm制程工艺的半导体生产线。

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        美西方国家发生的大事，中国等东南亚国家发生的大事，在中国或美国的网民，第一时间就能从pn或gpn上看到。

        半导体前沿技术公司研发协会（selete）是1996年3月，由富士通、日立、松下、三菱电机、nec、冲电气、三洋电机、夏普、索尼、东芝、尼康和佳能等13家半导体公司，每家出资5亿日元成立的半导体技术共同开发公司。

        美国成立sematech，致使日本失去半导体行业第一的位置后，成立selete是日本半导体产业界为了重回全球第一所做的尝试，组织采用分层组织结构，领头推动整个研发进展，领导三大前沿技术的研发：前端工艺，后端工艺，用于65nm和45nm制程工艺的光刻和掩模工艺。

        尔必达（elpida）如今是日本唯一一家动态随机存取存储器（dram）生产企业，1999年由日立、nec和三菱电机的dram业务整合成立，2004年在东京证券交易所主板上市。其dram业务占据全球市场份额第三，主要供应戴尔、索尼等pc厂商。

        前世没有听说过尼康45nm干式光刻机！

        全球光刻机的历史进程已经改变！

        孙健不仅不担心，反而眼前一亮，bsec雪藏了一年多的45nm制程的浸润式光刻机twinsxt:3360i，终于可以光明正大的面世了。

        打电话让魏建国了解详细情况？

        “董事长，邓院长说，尼康dsp-100干式光刻机虽然采用尼康公司自研的157nm波长激光器，但配备尼康公司自研的pono偏振照明系统后，能够满足45nm制程的光刻需求，但同我们的3360i相比，他们有两个短时间很难解决的缺陷，一是氟化钙镜头的良品率低，价格昂贵，导致dsp-100的市场价定价会比我们贵50%左右；二是如今没有同45nm制程干式光刻机相匹配的磁悬浮式双工作台系统，工作效率会低15%左右。虽然尼康公司占据先发优势，但一旦3360i公布于众，英特尔和amd都不会购买dsp-100。”

        魏建国从邓国辉那里得到准确的消息后，向孙健汇报，话语中透着轻松和自信，他们也不担心。

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