bsec光刻机研究院从去年4月就已经开始研发32nm制程的浸润式光刻机，今年3月就生产出了试验样机。

        去年7月18日，全球第一条65nm半导体生产线在pgca量产的消息传到尼康公司，上下震动很大，虽然尼康研发成功的65nm制程的干式光刻机nsr-s308f随时可以量产，由于各方面的原因，当时没有国际晶圆厂家愿意订购，力推157nm波长干式光刻机发展方向的顾问吉田一郎召集公司高管商议对策。

        现任会长森佳照明坚持沿着既定的技术路线稳步推进，只要能率先研发成功45nm制程干式光刻机，才能一举扭转被动局面，就能继续引领全球光刻机的发展方向；研究所所长兼副总裁小川郁子和财务副总裁兰布林支持森佳照明的决定。

        副总裁诺利克建议公司放弃干式光刻机路线，投资研发浸润式光刻机。

        常务副总裁原田弘树建议公司两条腿走路。

        吉田一郎支持森佳照明等人的意见，抓紧时间研发45nm制程干式光刻机。

        去年5月，nikon研制的nsr-s308f干式光刻机量产，配备尼康公司自研的pono偏振照明系统后，能够满足65nm制程的光刻需求。

        selete购买了2台。

        “魏总，等dsp-100在市场上发酵一周后，我们再向外公布3360i，7月下旬量产，开始预订。”

        按照浸润理论，采用浸润式技术，193nm波长可以穿透纯净水，最高实现22nm的精度，浸润式技术还可以获得更好的景深。不需要真空或氮气条件，不需要更换掩膜，不需要更换光刻胶。

        这章没有结束，请点击下一页继续！

        内容未完，下一页继续阅读