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第一三八六章 光刻机的现状(下) (2 / 3)_

        孙健转移话题,也是告诉公司高层,gca账上的现金流不是多了,而是远远不够。

        前世,euvllc联盟的几百位顶尖科学家在一起联合研发了6年多,发表了几百篇科研论文,从理论上验证了euv光刻机是可行的,目的达到,解散了euvllc联盟,接下来的实际问题都抛给了asml,面对如此高深的技术,asml是选择做还是不做?

        asml一家之力不可能完成研制成功euv光刻机这项宏伟工程,不得不拿出公司近三成的股权,向下游光刻机重要客户intel、台积电和三星电子融资了60多亿美元!

        据说为了研发euv光刻机,asml前前后后在将近20年时间内投入上百亿美元的研发费用。

        gikon占据光刻机的高端市场,技术水平不分仲伯,但由于高端光刻机用户intel、ibm、it、adm、hp同gca既是sematech会员,又是gca的股东,采用一致对外的策略,gca的高端光刻机是首选,gca如今占据全球高端市场份额的近7成,nikon占3成多。

        在技术水平相同的情况下,市场起决定因素。

        根据光刻机技术和市场占有率,gca如今成为名副其实的全球老大,nikon屈居第二。

        nikon想从gca的手里抢回intel、ibm、it、adm、hp的高端光刻机订单,只能率先攻克193nm波长的世界性难题,第一个研发成功65nm制程工艺的光刻机才有可能。

        在nikon技术领先的情况下,intel、ibm、it、adm、hp就会以公司的利益为重。

        asml的工程师琼斯带领20多人的研发部门经过3年多时间的研发,于1996年9月,研发成功全球第二款具有自主知识产权的光刻机双工作平台系统,但为时已晚,asml和其他光刻机公司都购买了bsec的专利技术,自己生产光刻机双工作平台系统,bsec负责升级;除了gca,其他公司生产一台光刻机需要缴纳相当于每台光刻机售价1的专利使用费。

        gca如今已经升级配套90nm制程工艺的磁悬浮式双工作台系统技术,遥遥领先于asml的技术,按照专利技术转让协定,bseikon、asml、和svg。

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